Bei der HWE-EA1 handelt es sich um eine Anlage zum entwickeln von

fotobeschichtetem Basismaterial. Die Anlage arbeitet mit einem

Sprüh-Verfahren analog den bekannten HWE-Ätzanlagen. Dieses Verfahren

steht für kurze Entwicklungszeiten geringen Entwicklerbedarf und ein

konturenscharfes Endergebnis. Die Anlage kann sowohl mit NaOH-freiem

Spezialentwickler als auch mit herkömmlichem NaOH-Granulat (Ätznatron)

betrieben werden. Die Anlage besteht aus einem Zwei-Kammernsystem aus

4mm starkem Glas. Kammer 1 ist die Entwicklungskammer, Kammer 2 die

Spülkammer. Bei der HWE-EA1 handelt es sich um eine Anlage die speziell

für die Labor –Prototypen und Kleinserienfertigung von gedruckten

Schaltungen entwickelt wurde. Zwei leistungsstarke Motoren sorgen für

die gleichmäßige Entwicklerverteilung bzw.ein sauberes abspülen der

Platine nach dem Entwickeln. Durch das große Sichtfenster kann der

Entwicklungsvorgang optimal beobachtet werden. Das integrierte

Heizelement sorgt für eine optimale Entwicklertemperatur von ca. 30°C.

Ein am Sichtfenster angebrachtes Thermometer dient zur Überwachung der

Entwicklertemperatur. Mit der Anlage können Leiterplatten bis zu einer

Größe von 230 X 130 mm entwickelt werden. Ein verstellbarer

Platinenhalter dient zur Aufnahme der Leiterplatte. Geringer Platzbedarf

dank kompakter Abmessungen ( 360x210x220 mm ). Das Fassungsvermögen der

beiden Kammern beträgt je ca. 1,0l

(24 monatíge Werksgarantie)